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光刻机中国可以自主研发吗

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能够研发的，首先要相信自己的国家，自力更生，艰苦奋斗，从无到有，不让欧美西方国家卡脖子虽然光刻机的自主研发之路很困难，但是中国还是取得了很大成就的。

2016年，上海微电就成功研发了90nm光刻机。

2018年，中科院的超分辨光刻机设备研发成功，目前结合独特的双重曝光技术已经可以自主研发10nm芯片了。虽然10nm的芯片和目前世界上顶尖的芯片还有一段距离，但这总归是一个好的开始。

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